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GaN PA器件逐漸深入基站高頻應(yīng)用
發(fā)表時間:2021-05-11

摘自:半導(dǎo)體行業(yè)觀察

 

5G對于設(shè)備性能和功率效率提出了更高的要求,特別是在基站端,基站數(shù)量和單個基站成本雙雙上漲,這將會帶來市場空間的巨大增長。依據(jù)蜂窩通信理論計算,要達(dá)到相同的覆蓋率,估計中國5G宏基站數(shù)量要達(dá)到約500萬個。2021年全球5G宏基站PA和濾波器市場將達(dá)到243.1億元人民幣,年均復(fù)合增長率CAGR為162.31%,2021年全球4G和5G小基站射頻器件市場將達(dá)到21.54億元人民幣,CAGR為140.61%。

 

由于基站越來越多地用到了多天線MIMO技術(shù),這對PA提出了更多需求。預(yù)計到2022年,4G/ 5G基礎(chǔ)用的射頻半導(dǎo)體市場規(guī)模將達(dá)到16億美元,其中,MIMO PA的年復(fù)合增長率將達(dá)到135%,射頻前端模塊的年復(fù)合增長率將達(dá)到 119%。

 

相對于4G,5G基站用到的PA數(shù)會加倍增長。4G基站采用4T4R方案,按照三個扇區(qū),對應(yīng)的射頻PA需求量為12個,5G基站中,預(yù)計64T64R將成為主流方案,對應(yīng)的PA需求量高達(dá)192個。

 

功耗問題待解決

 

雖然,5G發(fā)展前景可期,但相關(guān)技術(shù)依然未達(dá)到成熟水平,特別是功耗問題,無論是基站,還是手機(jī)端,都存在這個問題,這也是蘋果依然沒有推出5G手機(jī)的一個重要原因。

 

特別是基站,目前來看功耗比4G高出不少,而在所有耗電的芯片元器件當(dāng)中,PA是大戶。因為射頻信號功率很小,只有經(jīng)過PA放大獲得足夠的射頻功率后,才能饋送到天線并發(fā)射出去,因此,PA是基站發(fā)射系統(tǒng)的重要器件。與此同時,PA也是最耗電、效率較低的器件,有統(tǒng)計顯示,約一半的基站功率消耗在了PA上。

 

然而,宏基站和小基站之間的功耗又有非常明顯的區(qū)別:與宏基站相比,小基站的覆蓋范圍小,發(fā)射功率低,PA非線性失真較小,PA功耗占比也較小,甚至可能不需要DPD等技術(shù)來進(jìn)行預(yù)失真處理。因此,對應(yīng)不同的基站,特別是5G基站的需求,PA有更多的產(chǎn)品路線可走,未來的商機(jī)也多了起來。

 

GaN替代LDMOS

 

基站用PA市場空間巨大,但其性能和功率效率問題亟待解決。在這樣的背景下,新工藝技術(shù)替代傳統(tǒng)工藝早已被提上了議事日程。

目前的PA市場,包括基站和手機(jī)端用的,制造工藝主要包括傳統(tǒng)的LDMOS、GaAs,以及新興的GaN。而在基站端,傳統(tǒng)LDMOS工藝用的更多,但是,LDMOS 技術(shù)適用于低頻段,在高頻應(yīng)用領(lǐng)域存在局限性。而為了適應(yīng)5G網(wǎng)絡(luò)對性能和功率效率的需求,越來越多地應(yīng)用到了GaN,它能較好地適用于大規(guī)模MIMO。

GaN具有優(yōu)異的高功率密度和高頻特性。GaAs擁有微波頻率和5V至7V的工作電壓,多年來一直廣泛應(yīng)用于PA。硅基LDMOS技術(shù)的工作電壓為28V,已經(jīng)在電信領(lǐng)域使用了許多年,但其主要在4GHz以下頻率發(fā)揮作用,在寬帶應(yīng)用中的使用并不廣泛。相比之下,GaN的工作電壓為28V至50V,具有更高的功率密度和截止頻率,在MIMO應(yīng)用中,可實現(xiàn)高整合性解決方案。

 

在宏基站PA應(yīng)用中,GaN憑借高頻、高輸出功率的優(yōu)勢,正在逐漸取代LDMOS;在小基站中,未來一段時間內(nèi)仍然以GaAs工藝為主,這是因為它具備可靠性和高性價比的優(yōu)勢,但隨著GaN器件成本的降低和技術(shù)的提高,GaN PA有望在小基站應(yīng)用中逐步拓展。

 

在手機(jī)端,射頻前端PA還是以GaAs工藝為主,短期內(nèi)還看不到GaN的機(jī)會,主要原因是成本和高電壓特性,這在手機(jī)內(nèi)難以接受。

 

總之,很可能大部分6GHz以下宏基站應(yīng)用都將采用基于GaN工藝的PA,5G網(wǎng)絡(luò)采用的頻段更高,穿透力與覆蓋范圍將比4G更差,因此,小基站將在5G網(wǎng)絡(luò)建設(shè)中扮演很重要的角色。不過,由于小基站不需要如此高的功率,GaAs等現(xiàn)有技術(shù)仍有其優(yōu)勢。而傳統(tǒng)的LDMOS工藝在基站用PA市場的份額將逐年減少,很可能在不久的將來退出歷史舞臺。

 


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